原位制备细晶Si<em>3</em>N4-Si2N2O复相陶瓷

原位制备细晶Si3N4-Si2N2O复相陶瓷

摘要: 以Y2O3和Al2O3纳米陶瓷粉体作为烧结助剂,液相烧结非晶纳米Si3N4陶瓷粉体,制备Si3N4-Si2N2O复相陶瓷.Si2N2O相通过原位反应2Si3N4(s)+1.5 O2(g)=3Si2N2O (s)+ N2(g)生成.1600℃烧结,烧结体保温30min,Si2N2O体积分数达到52%,基本由细小均匀的球形晶粒构成,平均粒径尺寸210nm,相变过程中,个别颗粒异常长大,长径比达到1.5.保温时间对孔隙、密度和粒径产生重要影响:随着保温时间的延长,孔隙逐渐收缩减小,烧结体的致密度逐渐提高,晶粒逐渐长大,保温60min,孔隙几乎完全闭合,相对密度达到99.1%,平均粒径280nm.当保温时间达到90min时,相对密度增加并不明显,但平均粒径长大到360nm.