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合成参数对氧化锡纳米薄膜的表面形貌影响研究

Effect ofsynthesis parameters on the surface topography of SnO2 nano-film

  • 摘要: 利用水热法制备二氧化锡纳米薄膜,本文通过对合成条件进行控制,并用FE-SEM对薄膜进行表征.结果显示:随着NaOH比例的增加,SnO2晶体粒径增大,从而导致SnO2堆积生长越发凌乱.随着保温时间增加,SnO2晶体更加完整.随着SnCl4浓度的增加,二氧化锡生长越发凌乱、无规则.根据研究结果分析可以得到较佳合成工艺参数为:反应温度200℃,盐碱摩尔比为1∶4,盐浓度为0.05 moVL,保温8天.

     

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