原位制备细晶Si3N4-Si2N2O复相陶瓷

骆俊廷 张凯锋 王国峰 陈国清

骆俊廷, 张凯锋, 王国峰, 陈国清. 原位制备细晶Si3N4-Si2N2O复相陶瓷[J]. 粉末冶金技术, 2005, 23(3): 172-175. doi: 10.3321/j.issn:1001-3784.2005.03.003
引用本文: 骆俊廷, 张凯锋, 王国峰, 陈国清. 原位制备细晶Si3N4-Si2N2O复相陶瓷[J]. 粉末冶金技术, 2005, 23(3): 172-175. doi: 10.3321/j.issn:1001-3784.2005.03.003
Luo Junting, Zhang Kaifeng, WANG Guofeng, CHEN Guoqing. Fabrication of fine-grained Si3N4-Si2N2O dual-phase ceramic by in-Situ reaction[J]. Powder Metallurgy Technology, 2005, 23(3): 172-175. doi: 10.3321/j.issn:1001-3784.2005.03.003
Citation: Luo Junting, Zhang Kaifeng, WANG Guofeng, CHEN Guoqing. Fabrication of fine-grained Si3N4-Si2N2O dual-phase ceramic by in-Situ reaction[J]. Powder Metallurgy Technology, 2005, 23(3): 172-175. doi: 10.3321/j.issn:1001-3784.2005.03.003

原位制备细晶Si3N4-Si2N2O复相陶瓷

doi: 10.3321/j.issn:1001-3784.2005.03.003
详细信息
  • 中图分类号: TF1

Fabrication of fine-grained Si3N4-Si2N2O dual-phase ceramic by in-Situ reaction

  • 摘要: 以Y2O3和Al2O3纳米陶瓷粉体作为烧结助剂,液相烧结非晶纳米Si3N4陶瓷粉体,制备Si3N4-Si2N2O复相陶瓷.Si2N2O相通过原位反应2Si3N4(s)+1.5 O2(g)=3Si2N2O (s)+ N2(g)生成.1600℃烧结,烧结体保温30min,Si2N2O体积分数达到52%,基本由细小均匀的球形晶粒构成,平均粒径尺寸210nm,相变过程中,个别颗粒异常长大,长径比达到1.5.保温时间对孔隙、密度和粒径产生重要影响:随着保温时间的延长,孔隙逐渐收缩减小,烧结体的致密度逐渐提高,晶粒逐渐长大,保温60min,孔隙几乎完全闭合,相对密度达到99.1%,平均粒径280nm.当保温时间达到90min时,相对密度增加并不明显,但平均粒径长大到360nm.
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